點膠新聞
點膠加工技術(shù)的應(yīng)用與發(fā)展
來源：www.daiwaroynethotelhiroshima.com 發(fā)布時間：2013年11月19日
點膠過程中，最基本的要求是在整個點膠過程中保持膠體流速和點膠效果一致。但是，由于影響點膠定量精度的因素很多，包括流體粘度、流體溫度、針筒內(nèi)液體的高度和壓力、針尖的內(nèi)徑和長度、點膠機(jī)器結(jié)構(gòu)、點膠高度以及膠點大小和形狀等，所以必須通過程序控制和機(jī)械控制來提高點膠的定量精度，并實現(xiàn)整個過程中膠體流速和點膠效果的一致性。隨著微電子技術(shù)的發(fā)展，集成電路復(fù)雜度不斷增加，這就要求半導(dǎo)體封裝具有更好的電性能、更高的可靠性。這些年來，為縮小電子產(chǎn)品的尺寸、降低生產(chǎn)成本，實現(xiàn)高精度的點膠控制性能已經(jīng)成為工業(yè)進(jìn)一步發(fā)展的需要，這就對點膠過程的高性能的控制要求變得越來越苛刻。高精度點膠控制的最終目標(biāo)是達(dá)到接近測量精度的最小誤差，同時還要具有很好的穩(wěn)定性。只有這樣，才能使點膠過程更精確，點膠質(zhì)量更好。
由此可見，未來完成精確的定量點膠，而且會有進(jìn)一步擴(kuò)大的趨勢，因此全自動點膠機(jī)技術(shù)及點膠裝置的研究也必將會持續(xù)下去。隨著21世紀(jì)納米電子時代的到來，電磁屏蔽封裝技術(shù)必將面臨更加嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)，也孕育著更大的發(fā)展，這一環(huán)境下，F(xiàn)IP點膠的發(fā)展也勢必會越來越好!
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